可操纵时候精准节制薄膜厚度，到达设想工艺请求，节流晶控，光控关键，为客户省去大批的膜厚仪耗材；可出产高折射率氮化薄膜，进步薄膜硬度机能；高温成膜，可应答各类用处；主动调理气体流量专利装配，坚持不变的靶电压，保障成膜品德；可选“校订板内部调理机构”。
溅射堆积体系在侧壁上装有多个圆柱形靶材，以进步堆积速度和多层涂层，该体系装备有直流脉冲或射频功率圆形阴极，垂直装置的基板和圆柱形阴极可最大水平地削减涂层进程中的颗粒净化。
AR 膜（基材玻璃透过率＞91.5%）：
■ 420-680nm波段，单面平均透过率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；
■ 双面平均透过率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；
色彩膜或突变色膜：
■ 以客户榜样为准，持续五炉随机地位装片或满炉，色彩色差ΔE<1.2；
■ 水煮测试：水煮 80℃30min，3M 百格测试（1*1mm）后大于 4B。

产物先容： 磁控溅射镀膜机操纵于塑料成品、陶瓷、树脂、水晶玻璃成品等、工艺品、塑料手机壳、电子产物、建材等行业。 该系列装备首要是操纵直流（或中频）磁控溅射，可顺应普遍镀膜靶材，如：铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属资料， 能够操纵溅射工艺停止镀膜，可进步膜层的附出力、反复性、致密度、平均度等特色。